割炬HC-4200 | |||||
1、長焦距設計 有效提高弧柱壓縮密度和弧長,增強電弧穿透能力 2、內循環(huán)雙冷卻 電極和噴口采用獨li冷卻方式,不僅提升割炬使用功率,聚焦等離子弧柱,且一定程度上提高易損件壽命,提高切割品質 3、雙氣路渦旋技術 內置分配器和外置渦流環(huán),氣體更均勻,弧柱壓縮更聚焦 4、支持純氧和富氧工藝 提高切割效率,提升切割品質,實現(xiàn)高精細切割質量 5、多功能 無需更換本體,只需更換易損件,即可實現(xiàn)干式/水霧 功能轉換,不僅可以水上切割,而且支持水下切割 |
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割炬型號 | 承載電流 | 穿孔厚度(mm) | 質量切割(mm) | 切割上限(mm) | 冷卻方式 |
HC-4200 | 60-420A | 50 | 30 | 80 | 水冷 |
割炬HC-4200 | |||||
1、長焦距設計 有效提高弧柱壓縮密度和弧長,增強電弧穿透能力 2、內循環(huán)雙冷卻 電極和噴口采用獨li冷卻方式,不僅提升割炬使用功率,聚焦等離子弧柱,且一定程度上提高易損件壽命,提高切割品質 3、雙氣路渦旋技術 內置分配器和外置渦流環(huán),氣體更均勻,弧柱壓縮更聚焦 4、支持純氧和富氧工藝 提高切割效率,提升切割品質,實現(xiàn)高精細切割質量 5、多功能 無需更換本體,只需更換易損件,即可實現(xiàn)干式/水霧 功能轉換,不僅可以水上切割,而且支持水下切割 |
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割炬型號 | 承載電流 | 穿孔厚度(mm) | 質量切割(mm) | 切割上限(mm) | 冷卻方式 |
HC-4200 | 60-420A | 50 | 30 | 80 | 水冷 |
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